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勻膠旋涂?jī)x通過(guò)高速旋轉(zhuǎn)基片，利用離心力將滴加在基片表面的膠液均勻鋪展，形成納米至微米級(jí)厚度的薄膜。勻膠旋涂?jī)x的構(gòu)成：1、旋轉(zhuǎn)平臺(tái)：放置基底的核心部件，通常采用真空吸附或機(jī)械夾持固定基底，材質(zhì)多為耐腐蝕金屬或陶瓷。2、驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)：由高精度電機(jī)驅(qū)...

紫外臭氧清洗機(jī)憑借其在清潔、環(huán)保節(jié)能、安全可靠等多方面的優(yōu)勢(shì)，在現(xiàn)代工業(yè)及科研等領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用。隨著技術(shù)的不斷發(fā)展與完善，其應(yīng)用范圍還將持續(xù)拓展，為各行業(yè)的表面處理提供解決方案，助力推動(dòng)相關(guān)產(chǎn)業(yè)向更高質(zhì)量、更可持續(xù)方向發(fā)展。紫外臭氧清洗...

烤膠機(jī)是一種是一種設(shè)計(jì)為準(zhǔn)確控溫、準(zhǔn)確計(jì)時(shí)、高熱均勻性的高性能實(shí)驗(yàn)室設(shè)備，可實(shí)現(xiàn)定時(shí)控溫烤膠操作，主要用于半導(dǎo)體硅片，載玻片，晶片，基片，ITO導(dǎo)電玻璃等工藝的制版的表面涂覆后薄膜烘干、固化?？灸z機(jī)的應(yīng)用領(lǐng)域：1、半導(dǎo)體制造：用于前烘、堅(jiān)膜...

等離子去膠機(jī)是一種利用低溫等離子體技術(shù)去除半導(dǎo)體、微電子、光電等領(lǐng)域中光刻膠殘留的設(shè)備，其原理基于等離子體的物理和化學(xué)作用，能夠高效、環(huán)保地去除有機(jī)污染物，廣泛應(yīng)用于芯片制造、封裝測(cè)試等工藝環(huán)節(jié)。氣體電離：在真空腔體內(nèi)，通過(guò)射頻(RF)電源...

在芯片制造、傳感器開(kāi)發(fā)或微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)生產(chǎn)中，材料的微米甚至納米級(jí)加工是決定產(chǎn)品性能的關(guān)鍵。RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)傳感器表面的微結(jié)構(gòu)需要準(zhǔn)確到微米級(jí)厚度，它通過(guò)物理轟擊與化學(xué)反應(yīng)的協(xié)同作用，成為半導(dǎo)體和微納制造領(lǐng)域的核心技術(shù)工具。RI...

等離子表面處理儀是一種在材料表面改性領(lǐng)域發(fā)揮著關(guān)鍵作用的設(shè)備，它利用等離子體這一特殊的物質(zhì)形態(tài)，對(duì)材料表面進(jìn)行準(zhǔn)確的處理，從而改善材料的表面性能，滿(mǎn)足不同行業(yè)對(duì)材料性能的多樣化需求。等離子體是一種由帶電粒子(如離子、電子)和中性粒子(如原子...

RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)是在真空系統(tǒng)中利用分子氣體等離子來(lái)進(jìn)行刻蝕的，利用了離子誘導(dǎo)化學(xué)反應(yīng)來(lái)實(shí)現(xiàn)各向異性刻蝕，即是利用離子能量來(lái)使被刻蝕層的表面形成容易刻蝕的損傷層和促進(jìn)化學(xué)反應(yīng)，同時(shí)離子還可清除表面生成物以露出清潔的刻蝕表面的作用。RIE反...

紫外臭氧清洗機(jī)的工作原理基于紫外線(xiàn)(UV)與臭氧(O2)的協(xié)同作用。紫外線(xiàn)照射能夠激發(fā)空氣中的氧氣分子(O2)，使其分解為氧原子(O)，隨后這些氧原子與周?chē)难鯕夥肿咏Y(jié)合，生成臭氧。臭氧作為一種強(qiáng)氧化劑，能夠迅速與材料表面的有機(jī)污染物發(fā)生化...